局部吸附陶瓷真空吸盘

Chucking plates

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• 吸盘与待吸附物体接触时，中心孔通过管道与真空泵连接。
• 启动真空泵后，吸盘内的空气被抽出，产生负压。
• 负压使吸盘与物体之间形成强大的吸附力，从而将物体牢牢吸附在吸盘上。

局部吸附陶瓷真空吸盘采用特殊的多孔陶瓷材料制成，可在真空吸盘盘面任意位置吸附小于盘面尺寸的任意产品。例如，使用12英寸的局部吸附陶瓷真空吸盘，可以固定12英寸的硅片，也可以固定8英寸、6英寸等尺寸的硅片。

ANYCHUCK

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传统陶瓷真空吸盘若要吸附小于盘面尺寸的产品，则需进行特殊加工，否则仅能吸附能够覆盖整个盘面的产品。若吸附小于盘面尺寸的产品，则真空会从未被产品覆盖的区域泄露。

兼容双规格硅片的传统陶瓷真空吸盘

传统真空吸盘采用机械加工孔板或孔径较大的多孔陶瓷形成真空，孔径均大于10μm。当采用传统真空吸盘吸附尺寸小于盘面的产品时，真空会从非接触区域泄漏，无法实现局部吸附。局部吸附真空吸盘采用1μm级多孔陶瓷，气体渗透率低。当采用局部吸附真空吸盘吸附尺寸小于盘面的产品时，非接触区域真空泄露的速度远小于真空泵制造真空的速度，因此接触区域的产品能够被牢固地吸附。

传统真空吸盘VS局部吸附真空吸盘

局部吸附真空吸盘采用1μm级多孔陶瓷，不会在吸附产品上形成吸痕，被吸附产品不会发生变形，有利于超薄产品的吸附。而传统真空吸盘孔径较大，当吸附超薄产品时，气孔区域会发生凹陷，形成吸痕，损伤产品。

局部吸附真空吸盘吸附薄膜产品

江苏源瓷局部吸附陶瓷真空吸盘简介

江苏源瓷新材料科技有限责任公司经过长时间的投入，成功研发1μm级孔径的高纯氧化铝多孔陶瓷，并以该多孔陶瓷成功研发局部吸附真空吸盘。我司高纯氧化铝多孔陶瓷产品均采用纯度99.8%以上氧化铝粉体制造，所有产品均经过1500℃高温烧结，在使用过程中无杂质挥发污染；高纯氧化铝多孔陶瓷产品具有20%~40%气孔率多种规格，将更好地满足多样化的场景应用需求。

江苏源瓷12英寸局部吸附真空吸盘

江苏源瓷8英寸局部吸附真空吸盘吸附多个产品

江苏源瓷12英寸局部吸附真空吸盘吸附8英寸硅片

局部吸附真空吸盘为江苏源瓷新研发产品，欢迎广大客户来电咨询，来图定制，我们将为您提供精准专业的解决方案。

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